超純水設備可生產出芯片生產過程中的清洗用水超純水,保證了芯片的良品率。采用雙反滲透、EDI、拋光混合床相結合的制水工藝,具有水利用率高、運行可靠、經濟合理等特點。...
萊特萊德超純水設備具有出水連續、無酸堿再生、無人值守、安裝簡單、操作方便等優點。出水水質符合半導體行業相關標準。...
萊特萊德超純水設備生產的超純水的電阻率可達到18MΩ*cm(25℃),完全符合集成電路清洗用水要求。...
芯片產業應用的超純水設備摒棄了傳統工藝,核心是采用的膜分離技術,應用反滲透工藝與EDI和精處理混床工藝來生產超純水,不僅產水量增加,出水水質能夠滿足ASTM D5127-13中E1.3標準, 滿足了芯片行業用水...
超純水設備廢水產量少,不會污染環境,具有很高的環境效益和經濟效益,具有廣闊的發展前景。...
萊特萊德超純水設備結構緊湊、管理分布合理、簡單,是一臺獨立的一體化智能系統。在芯片生產中,生產出的超純水可保證芯片良品率,是優質的選擇。...
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